2020年中國光刻機產業發展現狀和競爭分析
2020-08-12 10:48
前瞻網
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技術發展——技術仍在不斷進步中
光刻機一般可以分為無掩模光刻機和有掩模光刻機，其具體分類如下：
光刻工藝流程較多，占晶圓制造耗時的40％－50％，光刻技術也在不斷的發展，自光刻機面世以來，光刻設備已經進行了四次重大的革新，光刻設備所用的光源，也從最初的g－line，i－line歷經KrF、ArF發展到了如今的EUV。目前，EUV光刻機設備被ASML完全壟斷，ASML的EUV光刻機市占率達到100％。
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