國產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”
今日,眾多媒體報道稱,在美國當(dāng)?shù)貢r間2月7日,美國商務(wù)部工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)表聲明,宣布將33個總部在中國的實(shí)體列入“未經(jīng)核實(shí)清單(Unverified List,UVL)”。
這33家企業(yè)主要包括電子、光學(xué)、藥研等高新技術(shù)企業(yè)及大學(xué)實(shí)驗(yàn)室等,意義很明顯,就是打壓中國高科技,限制這些高精尖的科技發(fā)展。

而這33家企業(yè)中,我國先進(jìn)光刻機(jī)供應(yīng)商上海微電子亦在其中。
事實(shí)上,在北京時間2月7日,上海微電子是有一件大事情發(fā)生的,那就是舉行了中國首臺2.5D/3D先進(jìn)封裝光刻機(jī)的發(fā)運(yùn)儀式。
這臺最先進(jìn)的先進(jìn)封裝光刻機(jī),主要用于高端數(shù)據(jù)中心高性能計算(HPC)和高端AI芯片等高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域,可滿足2.5D/3D的先進(jìn)封裝,據(jù)稱是行業(yè)內(nèi)同類產(chǎn)品的最高水平。

不過大家要注意的是,先進(jìn)封裝光刻機(jī),并不等同于先進(jìn)芯片制造的光刻機(jī),這是兩碼事。
我們平時指的ASML的EUV光刻機(jī),是指前道光刻機(jī),用于晶圓的制造,目前上海微電子對外公開的前道光刻機(jī)型號是SSA600/20,只能用于90nm的分辨率,落后ASML的EUV光刻機(jī),至少是10年以上的差距。
而封裝光刻機(jī),是指后道光刻機(jī),是用于芯片制造后的封測階段,其技術(shù)難度是不一樣的,且兩種光刻機(jī)的原理也不一樣的。

至于為何美國要將上海微電子列入“未經(jīng)核實(shí)清單”?原因我們可以分析一二。
按照說法,列入這一清單的公司如果要向美國企業(yè)采購產(chǎn)品,必須獲得許可證。如果這些公司想要從名單中除名,就必須允許美國政府對其進(jìn)行檢查。而如果要獲得美國供應(yīng)商的元件,就必須出具聲明,證明自己為合法且愿意遵守美國法規(guī)
通過以上這三點(diǎn),想必大家明白了吧,根本就是打壓中國高科技,不想讓我們發(fā)展,或者通過檢查等手機(jī),掌握對方的一些商業(yè)機(jī)密,更進(jìn)一步進(jìn)行精準(zhǔn)打擊,或者進(jìn)行掌控。
原文標(biāo)題 : 國產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”
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